Stages PhyMaTech

Année 2008

Mise sous contrôle de procédés et d’équipements de nettoyage de surfaces.
(STMicroelectronics – Crolles 2 SAS).

Etude et optimisation de l’implantation par immersion plasma.
(CEA-LETI Grenoble)

Développement de procédé de gravure isotrope sélective par voie sèche.
(CEA-LETI Grenoble)

Microsystème électromécanique pour la référence en tension.
(LAAS Toulouse)

Année 2007

Etude d’une défaillance process au niveau d’une interconnection locale. (STMicroelectronics – Rousset).

Etudeet compréhension des mécanismes de typ « snapback » dans les technologies CMOS avancées.
(STMicroelectronics – Crolles).

Synopsys sentaurus process assessment by SIMS for the simulation of CMOS10 implantation steps.
(STMicroelectronics – Rousset).

Light guiding in Liquid Crytal cells.
(Philips Research – Eindhoven)

Année 2006

Développement d’une méthode alternative de réalisation de substrats GeOI 200mm en utilisant la technologie Smart CutTM.
(SOITEC/CEA-LETI – Grenoble)

Phénomènes de diffusion lors de l’oxygène thermique sélective de dispositifs optoélectroniques.
(LAAS – Toulouse)

Implementation, validation and calibration of diffusion models in Sentaurus Process simulator.
(STMicroelectronics – Crolles1).

Sécurisation du process de dépôt de silicium des fours ASM par Advanced Process Control.

Développement d’un procédé de gravure sur silicium pour la réalisation d’un réseau de micro lentilles.
(SILIOS Technologies – Aix en Provence)

Miniaturisation d’un capteur d’humidité.
(Humirel – Toulouse)

Année 2015

Capacité électrochimique d’échantillons de Hall quantiques. (L2C)